射頻濺射

采用射頻電源代替直流電源，在靶和襯底間施加高頻電壓，濺射時(shí)，靶極會(huì )產(chǎn)生自偏壓效應（即靶極會(huì )自動(dòng)處于負電位狀態(tài)），使絕緣靶的濺射得到維持。常用的頻率約為13.56兆赫。

優(yōu)點(diǎn)可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可大規模生產(chǎn)

磁控濺射

磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來(lái)增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。電源方面可同時(shí)配備直流和射頻兩種。

其缺點(diǎn)是：

1）工藝比傳統單色PVD的更為復雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高；

2）生產(chǎn)良率低，大約為65～70%（傳統單色PVD的生產(chǎn)良率一般為85～90%；

3）價(jià)格會(huì )比傳統單色PVD的高50～60%；

4）因工藝和流程的影響，雙色PVD生產(chǎn)限制較多，受產(chǎn)品結構的影響較大，而傳統單色PVD則幾乎不受限制

現代涂層設備(均勻加熱技術(shù)、溫度測量技術(shù)、非平衡磁控濺 射技術(shù)、輔助陽(yáng)極技術(shù)、中頻電源、脈沖技術(shù)) 現代涂層設備主要由真空室、真空獲得部分、真空測量部分、電源供給部分、工藝氣體輸入系統、機械傳動(dòng)部分、加熱及測溫部件、離子蒸發(fā)或濺射源、水冷系統等部分組成。